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    glenresearch 10-1037說(shuō)明書(shū)

     更新時(shí)間:2020-01-14 點(diǎn)擊量:938

     

    glenresearch 10-1037說(shuō)明書(shū)

    氨基修飾劑C2 dT

    5'-二甲氧基三苯甲基-5- [N-(三氟乙酰氨基乙基)-3-丙烯酰亞胺] -2'-脫氧尿苷,3'-[(2-氰基乙基)-(N,N-二異丙基)]-亞磷酰胺

    產(chǎn)品規(guī)格

    式:

     

    46 H 54 N 6 O 10 F 3 P

    兆瓦:

     

    938.94

    固件:

     

    402.30

    CAS號(hào):

     

    198080-39-6

     

    描述

    序列修飾符設(shè)計(jì)用于自動(dòng)合成。羧基-dT在脫保護(hù)過(guò)程中被水解,并且可以通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)肽偶聯(lián)或通過(guò)中間體N-羥基琥珀酰亞胺(NHS)酯直接偶聯(lián)到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成過(guò)程中,可以分別添加氨基修飾劑dA,氨基修飾劑dC,N2-氨基修飾劑dG和兩種氨基修飾劑dT產(chǎn)品,分別代替dA,dC,dG和dT殘基。相應(yīng)的氨基修飾劑支持物可以代替它們各自的脫氧核苷支持物。脫保護(hù)后,C6類(lèi)似物上的伯胺通過(guò)總共7 -10個(gè)原子的間隔臂與寡核苷酸分離,并可以標(biāo)記或連接到酶上。

    細(xì)節(jié)

    用法

    • 偶聯(lián):氨基改性劑C2 dT的反應(yīng)方式與普通亞磷酰胺相同。為防止副反應(yīng),請(qǐng)使用乙?;Wo(hù)的dC進(jìn)行合成。有關(guān)更多詳細(xì)信息,請(qǐng)參閱解除保護(hù)。
    • 脫保護(hù):無(wú)需更改合成儀制造商建議的標(biāo)準(zhǔn)方法。在標(biāo)準(zhǔn)氫氧化銨脫保護(hù)過(guò)程中,將TFA保護(hù)基去除。氨脫保護(hù)過(guò)程中發(fā)生的少量副反應(yīng)可能導(dǎo)致不可逆地封端2-5%的胺。如果多次添加修飾符,這可能很重要。為了防止反應(yīng),使用乙酰基保護(hù)的dC進(jìn)行合成,然后在30%氨/ 40%月安1:1(AMA)中于65°C脫保護(hù)15分鐘。
    技術(shù)指標(biāo)
    沖淡無(wú)水乙腈
    存儲(chǔ)冷藏儲(chǔ)存,不高于2-8°C,干燥